연구실 설명

신소재화학공정연구실에서는 화신소재화학공학정연구실에서는 화학 기상 증착법(Chemical Vaper Deposition, CVD)과 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)을 반도체 IC소자, 디스플레이 소자, 에너지 저장소자(밧데리, 슈퍼커패시터), 환경용 광촉매, 수소생성 전기화학 촉매, 전기 변색소자, 전기화학 센서에 응용하는 연구하고 있습니다. 또한 최근에는 플라즈마 기반의 의료 기기 장비 기술 및 파우더형 ALD 증착기 개발도 연구를 진행중입니다.

주요 연구분야

• 다양한 화학/환경/에너지/의공학 시스템의 예측 수학 모델 개발, 공정 시뮬레이션 및 설계/운전 최적화, 경제성 및 전주기 분석
• 전산유체역학(Computational fluid dynamics, CFD) 시뮬레이션 및 반응기/디바이스 디자인 최적화

대표적 연구성과

• 파우더용 ALD 장비 개발 특허 취득
• 광학 활성이 우수한 광촉매 제조 및 특허 취득